高分辨率顯微鏡載玻片靶

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更新時間：2023-12-19
產品介紹：高分辨率顯微鏡載玻片靶采用高精度電子束光刻技術設計。這些圖案蝕刻在光譜透射范圍廣泛（DUV-VIS-NIR）的 10 × 10mm² 熔融石英基底上，在該襯底上施加高光密度的鉻層。通過去除鉻層，形成尺寸低 100nm 的圖案。本產品提供優異的尺寸穩定性，并安裝在金屬顯微鏡載玻片支架中。每個靶上的負片圖案允許結構透明，而背景被鉻層阻擋。
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產品介紹

品牌	其他品牌	價格區間	1萬-5萬
組件類別	光學元件	應用領域	醫療衛生,環保,化工,電子/電池

高分辨率顯微鏡載玻片靶

Ø小圖案尺寸 - 100nm 和 3300 lp/mm

Ø采用高精度電子束光刻技術制作

Ø負片圖案設計

高分辨率顯微鏡載玻片靶采用高精度電子束光刻技術設計。這些圖案蝕刻在光譜透射范圍廣泛 (DUV-VIS-NIR) 的 10 × 10mm² 熔融石英基底上，在該襯底上施加高光密度的鉻層。通過去除鉻層，形成尺寸低 100nm 的圖案。高分辨率顯微鏡載玻片靶提供優異的尺寸穩定性，并安裝在金屬顯微鏡載玻片支架中。每個靶上的負片圖案允許結構透明，而背景被鉻層阻擋。

高分辨率顯微鏡載玻片靶

高分辨率顯微鏡美國空軍USAF測試目標板可輕松確定透射光中物鏡的分辨率極限，并由 59 個圖案組成，水平和垂直排列的線圖案為 7.5 3300 lp/mm。該測試目標板還具有 5 個直徑在 4.0-0.25μm 之間的針孔，可用于微成像光學元件的詳細表征。

高分辨率顯微鏡星測試目標板

高分辨率顯微鏡星測試目標板由 5 顆西門子星組成，其特點是星中心的錐形部分制造的小寬度為 150nm。該測試目標板非常適合于確定具有非常高數值光圈的顯微鏡物鏡的分辨率。

高分辨率顯微鏡檢查板

高分辨率顯微鏡檢查板的特點是 50 x 50 平方微米的正方形總尺寸為 9.0 x 9.0 平方毫米。檢查板非常適合于測試圖像歪斜和曲率，以及確定由于直線和銳邊導致的圖像質量。

高分辨率顯微鏡載玻片靶通用規格

Pattern Tolerance:	100nm/cm = 10-5
光密度 OD:	OD>8 @ 400nm, 6 @ 550nm, 4.5 @ 750nm, 3.6 @ 1000nm
光譜范圍:	200 - 2000nm
基底:	Fused Silica w/Chrome deposit
尺寸 (mm):	10 x 10 x 1
構造 :	Stainless Steel, 75 x 25 x 1.5mm, microscope slide format

訂購信息：

標題	產品號
High Res Microscopy Star Target	#37-538
High Res Microscopy USAF Target	#37-539
High Res Microscopy Checker board	#37-540

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